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IC前道制造
SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
全国服务热线:
18168876888
获取专业服务
IC前道制造
SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
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产品图片
产品详情
SSA600/20
SSC600/10
SSB600/10
SSX600系列步进扫描投影光刻机采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术,以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术,可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。
主要技术参数
型号
SSA600/20
SSC600/10
SSB600/10
分辨率
90nm
110nm
280nm
曝光光源
ArF excimer laser
KrF excimer laser
i-line mercury lamp
镜头倍率
1:4
1:4
1:4
硅片尺寸
200mm或300mm
200mm或300mm
200mm或300mm